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溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展(9)

http://www.com165.com 时间:2016-10-19 14:49来源:未知

然而,以TiO2-x为靶材镀膜以达到高沉积速率的可行性仅仅在实验室水平得到了证实,工业放大过程还在进行中。

  3 结 语

溅射法是制备二氧化钛薄膜最具发展前途的方法之一,其靶材的选择趋向于用“非化学计量”氧化物TiO2-x。以TiO2-x为靶材可以克服常规用纯金属和计量比化合物为靶材的一些弊病,受到广泛的关注。

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